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| 特定施設の種類 | R5年3月31日 現在 |
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|---|---|---|---|
| 事業場数※ | 設置基数 | ||
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硫酸塩パルプ(クラフトパルプ)又は亜硫酸パルプ(サルファイトパルプ)の製造の用に供する塩素又は塩素化合物による漂白施設 |
2 | 6 | |
| カーバイト法アセチレンの製造の用に供するアセチレン洗浄施設 | 1 | 1 | |
| 廃棄物焼却炉に係る廃ガス洗浄施設、湿式集じん施設及び灰の貯留施設であって汚水又は廃液を排出するもの | 1 | 3 | |
| 下水道終末処理施設 | 1 | 1 | |
| フロン類の破壊の用に供する施設のうちプラズマ反応施設、廃ガス洗浄施設及び湿式集じん施設 | 1 | 1 | |
| 合計 | 6 | 12 | |
※1つの事業場に複数の特定施設を有する場合は、その事業場を代表する特定施設の欄に計上した。
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